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特种气体可以用于太阳能电池的应用，，，，，，那么详细特种气体在太阳能电池中是怎么举行应用的？？？？？？

　1、太阳能电池的应用 　　1839年法国科学家E Becquerel发明液体的光生伏特效应(简称光伏效应) 。。。。。1954年, 美国贝尔实 验室研制出单晶硅太阳能电池。。。。。太阳能电池的原理是基于半导体的光伏效应, 将太阳辐射直接转换成 电能。。。。。在pn结的内建电场作用下, n区的空穴向p区运动, 而p区的电子向n区运动, 造成在太阳能电池 受光面(上外貌) 有大宗负电荷(电子) 积累, 而在电池背光面(下外貌) 有大宗正电荷(空穴) 积累。。。。。如在 电池上、下外貌做上金属电极, 并用导线接上负载, 在负载上就有电流通过。。。。。只要太阳光照一直, 负载 上就一直有电流通过。。。。。太阳能电池的应用首先是在太空领域。。。。。1958年, 美国首颗以太阳能电池作为信 号系统电源的卫星先锋一号发射上天。。。。。随后, 太阳能电池在照明、信号灯、汽车、电站等领域被普遍 接纳。。。。。特殊是与低温与特气LED手艺的团结, 给太阳能电池的普及带来了重大潜力。。。。。 　

　2、晶体硅太阳能电池生产工艺和气体应用 　　商业化生产的晶体硅太阳能电池通常接纳多晶硅质料。。。。。硅片经由侵蚀制绒, 再置于扩散炉石英管 内, 用POCl3 扩散磷原子, 以在p型硅片上形成深度约015μm 左右的n 型导电区, 在界面形成pn结。。。。。随 后举行等离子刻蚀刻边, 去除磷硅玻璃。。。。。接着在受光面上通过PECVD制作减反射膜, 并通过丝网印刷 烧结工艺制作上下电极。。。。。 　

　晶体硅电池片生产中的扩散工艺用到POCl3 和O2。。。。。减反射层PECVD工艺用到SiH4、NH3 , 刻蚀 工艺用到CF4。。。。。其爆发的化学反应划分为: 　　

  POCl3 +O2 → P2O5 +Cl2 　　

  P2O5 + Si → SiO2 + P 　

  SiH4 + NH3 → SiNx:H +H2 　

  CF4 + O2 + Si → SiF4 + CO2 　

　3、薄膜太阳能电池生产工艺和气体应用 　　商业化生产的薄膜太阳能电池分为非晶硅( a2Si) 薄膜和非晶/微晶硅( a2Si /μc2Si) 叠层薄膜。。。。。后 者对太阳光的吸收使用更充分。。。。。其生产工艺是在玻璃基板上制造透明导电膜( TCO) 。。。。。一样平常通过溅射 或LPCVD的要领。。。。。然后再通过PECVD要领沉积p型、i型和n型薄膜。。。。。再用溅射做背电极。。。。。 　

　非晶硅太阳能电池在LPCVD沉积TCO工序用到DEZn、B2H6 ; 非晶/微晶硅沉积工序用到SiH4、 PH3 /H2、TMB /H2、CH4、NF3 等。。。。。其爆发的化学反应划分为： 电话 地图 留言　　

  Zn (C2H5 ) 2 + H2O → C2H6 + ZnO 　　

  SiH4 + CH4 → a2SiC: H + H2 　　

  SiH4 → a2Si: H  

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